GUV-1000光固化微纳结构气敏膜成膜仪采用紫外激光直写光固化的方式成膜，可以在保留气敏材料微纳结构的条件下高精度控制成膜区域，适用于批量成膜，以及阵列成膜。设备主要由纳秒紫外激光器、同轴成像光路、CCD摄像机、高精度试样台和光固化PC端软件等部分构成，如图1所示。纳秒紫外激光器产生激光并发射激光束，通过同轴成像光路将激光束以近乎垂直的角度照射到被曝光材料表面，CCD摄像机可以用来观察基片表面确定激光直写的位置，通过高精度试样台的转动和平移可以实现高精度的定位。可通过PC端软件进行光固化的工艺参数调控，如图3所示为光固化软件操作界面，该软件可实时读取激光直写图形文件和移动升降试样台，快速调控激光扫描速度、激光扫描次数、开光延时和关光延时等工艺参数，同时连接摄像头可实时观察基片表面的状况，进行激光直写对准。如图4为光固化微纳结构气敏膜成膜仪直写的100个SnO₂光固化气敏浆料膜的形状，直径大小均在120μm左右，图5为氧化钨纳米片气敏膜光固化后微纳结构依然保存。

性能参数